真空电镀工艺具有哪些特点
真空电镀工艺的特点有：
1.真空镀膜所镀的金属膜层是需要比较薄的，应该在0.01-0.1微米，并且可以严格的复制出镀件表面的形状；
2.真空电镀的工艺使用电压不是很高，应该在200v，工艺流程比较简单；
3.工艺所使用的蒸镀锅瓶的容积比较小，电镀件的出数件比较少，生产效率比较低；
4.真空镀膜工艺只限于比钨丝熔点比较低的金属，如铝、银、铜、金等等镀件饰品；
5.真空镀膜的工艺质量要求比较高，电镀之前必须要打底油来弥补工件表面存在的一些不足；
6.真空镀膜工艺可以镀的塑料件材质有许多，包括abs、pe、pvc等等。